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Product CenterDesk V 鍍膜機使用一個2英寸的陰極進行濺射,由一個最大輸出為100毫安的直流電源驅動。使用傾斜/旋轉臺來實現好的樣品覆蓋,特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺和快門對樣品進行預清潔。不需要濺射嗎?你可以使用碳棒或碳紗進行蒸發。Desk V包括一個堅固的機械泵,可迅速將系統的工作壓力提高到50 mtorr。想要更多的功能?選擇有著鋼制腔室和渦輪分子泵的DeskTSC來濺射
品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,電子/電池,航空航天 |
Desk V 鍍膜機
Desk V沉積的涂層材料選擇廣泛(包括銥),而可調節的旋轉和傾斜平臺確保了高度均勻的涂層,具有良好的一致性和覆蓋率,即使是在 表面極不規則的樣品上。Desk V很容易從金屬濺射轉換到碳蒸發。 DeskV包括一個易于更換的、落地式的、絕緣的旋轉試樣臺。special的臺面旋轉設計可以改變臺面的傾斜程度,以確保特殊的均勻性、一致 性和覆蓋性。臺面高度可以從3.5英寸(90毫米)調整到5英寸(130毫米),讓你精確控制光源與基底的距離。
Desk V 鍍膜機
Desk V的即插即用功能為你消除了許多學習障礙。 只需按一下6英寸的觸摸屏,就可以管理系統的每一個點--從泵送到沉積到工藝控制到排氣。Desk V的新型全彩觸摸屏控制提供了直觀 和簡單的操作,包括對功率、壓力、持續時間和通風的定時濺射和蝕刻工藝設置點。 Desk V為繁忙的研究人員和顯微人員設計和建造,具有創建、存儲和運行多達10個涂層配方的新能力,現在的工藝運行可以實現更好 的一致性,更精確的層,以及更統一、可重復的涂層結果。在今天的多用戶環境中,這種先進的配方編程和存儲能力也為材料的切換 提供了方便,并能夠存儲各種不同的工藝配方。所有這些都導致了更高的生產率、可重復性和易用性。