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產品簡介
高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工藝，可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標準模板分為三類：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。適用于Obducat，Suss，HP，EVG等多種型號的納米壓印設備。
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產品分類article
相關文章高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）技術參數：
Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.
提供各種材料的納米壓印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板zui大尺寸：4英寸，特征尺寸為100nm。對于更小的尺寸，zui小的特征尺寸可以達到50nm。
DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.
提供zui低30nm特征尺寸的各種結構的電子束刻蝕服務。基板：任何導電或者非導電晶片。
MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.
各種納米結構（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微納米加工。
高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特點：
softmoldforthermalnanoimprint熱壓印的軟模板
quartzmoldforUVnanoimprint紫外壓印的石英模板
siliconmoldforthermalnanoimprint熱壓印的硅模板
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