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全自動步進重復式激光干涉光刻機 VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動光路重構(gòu)、動態(tài)鎖相、高精度步進重復曝光等強大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動設(shè)置或調(diào)整，我們的自動化系統(tǒng)可以在2 cm×2 cm的曝光區(qū)域內(nèi) （曝光區(qū)域還可定制其他尺寸及形狀）實現(xiàn)納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結(jié)構(gòu)的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區(qū)間范圍，

VIL1000激光干涉光刻機 VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強大功能。該系統(tǒng)可以通過使用標準2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場進行重復曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生各種納米結(jié)構(gòu)，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。